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电子枪枪头

一.概述

我公司生产的 ZX-10D 型 e 型电子枪用于真空镀膜中的电子束蒸发镀膜。泛 应用于:增透膜、介质膜、红外膜、滤光片、眼镜膜、光纤膜、高反镜、热/冷

反光镜、低漂移滤波器、带通滤波器等。

本公司电子枪因使用电磁石、经由电力来控制电子束角度,电子束偏转角为

270º,可以垂直入射进坩埚、使不易熔解的氧化物(SiO2、TiO2、Ta2O5、Nb2O5

等)表面充分熔解、不易产生溅埚现象、造成被镀物(基板)之污染。电子束蒸发 能够很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均匀性,增加镀膜的一致性和重复性,薄

膜易于控制。

 

二.主要特点:

1.技术先进

①  ZX-10D 型 e 型电子枪,枪功率 10KW,束偏转角 270°,阳极电压为

0-10KV 连续可调,束流:0-1000mA 可调,电子枪主体有屏蔽罩,高压电源采用 自动高压灭弧及故障判断电源。

② 反射电子的基板入射少(吸收降低)

③ 从外部可以改变加速电压

2.结构先进

充分借鉴国内外先进的电子枪的优点,具有独特的水冷和密封结构,经多

次长时间的实验证明,电子枪能够在很大的电子束流下长期稳定工作。

电子枪灯丝为隐藏式,不容易受到膜料的污染,灯丝带定位插口,更换更

为简便,不会因为员工个人素质不同而导致灯丝安装不一致,造成枪光斑不一致,

从而引起镀膜重复性不一致。

经本产品特殊设计的电路保护,灯丝不会因电流过大而烧断,只会因为灯

丝氧化而更换,从而使灯丝寿命更长久。
3.可在高温环境下长期可靠工作

在通常镀膜工艺中,工件需加热至很高温度,整个真空室内温度很高,而

本电子枪良好的冷却系统能保证电子枪在 400℃的高温环境下长期正常工作。

4.完全适用于反应气体

在反应沉积镀膜过程中,通常需要用氧气或氮气等与蒸发的膜料进行反应

沉积所需薄膜,在此过程中增加反应气体的活性和能量,对形成高质量薄膜至关

重要。本电子枪可以在完全通入反应气体下正常工作。

 

★ 另配置本公司自行研发的全自动可编程扫描控制器,扫描编程方式可通

过电脑随机编程,可对枪能量进行自由补偿,实现能量均匀,蒸发状态可重复, 料面平整,可存储八种扫描方式可供选择并对不同膜料进行蒸发预融,真正实现 无人状态下全自动镀膜。

 

三.主要技术参数:

1.最高电压:-4~-10KV(随机可调)

2.高压输出稳定性:≤0.1%

3.最大电流:1A

4.最大加速功率:10KW

5.电子束偏转角:270°(永磁铁)

6.电子束位置调节宽度:±30

7.电子束扫描宽度:±30

8.电子束扫描频率:50~500

9.输入电压三相:AC 380V±10% 50/60HZ

10.输入功率:12KVA

11.空载功率:400VA

12.纹波:≤±2%

13.稳定性:≤0.5%

14.灯丝电压:12V

15.灯丝电流:50A

16.最大输出电流:±2.5ADC

17.扫描位置:X 轴、Y 轴

18.扫描方式:任意可调(可编程扫描完成)

19.两把枪可以同时工作,互不影响

20.可储存每个光斑能量补偿程序

21.国内唯一具有能量补偿功能的电子枪技术


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