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几种主要真空蒸发镀膜技术

发布者:admin   查看次数:1836   发布时间:2017/6/6

1.电阻蒸发镀:电阻蒸发源用于蒸发低熔点材料,如金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等。电阻蒸发源一般采用钨、钼、钽制作。

2.电子束蒸发镀:利用电子束加热使膜材汽化蒸发后,凝结在基片表面成膜是真空蒸镀技术中一种重要的加热方法。这种装置的种类很多。随着薄膜技术的广泛应用,不但对膜的种类要求繁多,而且对膜的质量要求更加严格。电阻蒸发镀已不能满足蒸镀某些金属和非金属的需要。电子束热源能获得远比电阻热源更大的能量密度,数值可达到104-109w/cm2,因此可以将膜材加热至3000-6000c。这就为蒸发难熔金属和非金属材料如钨、钼、锗、SiO2、AI2O3等提供了较好的热源。而且由于被蒸镀的材料是放在水冷坩埚内,因而可避免容器材料的蒸发及容器材料与膜材之间的反应,这对提高膜的纯度是极为重要的。另外,热量可直接加到膜材表面上,因此热效率高,热传导和热辐射损失少。

3.高频感应加热蒸发镀:利用感应加热原理把金属加热到蒸发温度。将装有膜层材料的坩埚放在螺旋线圈的中央(非接触),在线圈中通以高频电流,可以使金属膜层材料产生电流将自身加热升温,直至蒸发。
感应加热蒸发源的特点:1)蒸发速率大 2)蒸发源温度均匀稳定,不易产生铝滴飞溅现象 3)蒸发源一次装料,无须送丝机构,温度控制比较容易,操作简单 4)对膜材纯度要求略宽些。

4.电弧加热蒸发镀:与电子束加热方式相类似的一种加热方式是电弧放电加热法。它也具有可以避免电阻加热材料或坩埚材料的污染,加热温度较高的特点,特别适用 于熔点高,同时具有一定导电性的难熔金属、石墨等的蒸发。同时,这一方法所用的设备比电子束加热装置简单,因而是一种较为廉价的蒸发装置。

5.激光束蒸发镀:采用高功率密度脉冲激光对材料进行蒸发,用以形成薄膜的方法,一般称为激光蒸镀